Magnetron sputtrande beläggningslinje

Magnetron sputtrande beläggningslinje

Detaljer
Produktionslinjen för vakuumbeläggning är ett högt specialiserat tillverkningssystem, som huvudsakligen används för att avsätta ett eller flera lager av extremt tunna funktionella filmer på ytan av underlag (som glas, plast, metall, keramik, halvledarskåp, etc.). Kärnan är att förånga eller jonisera beläggningsmaterialet genom olika fysiska metoder i en mycket vakuummiljö och sedan kondensera den till en film på ytan av underlaget.
Produktklassificering
Kontinuerlig beläggningslinje
 
Skicka förfrågan
Beskrivning
Tekniska parametrar

Produktionslinjen för vakuumbeläggning är ett högt specialiserat tillverkningssystem, som huvudsakligen används för att avsätta ett eller flera lager av extremt tunna funktionella filmer på ytan av underlag (som glas, plast, metall, keramik, halvledarskåp, etc.).

 

Kärnan är att förånga eller jonisera beläggningsmaterialet genom olika fysiska metoder i en mycket vakuummiljö och sedan kondensera den till en film på ytan av underlaget.

 

Applikationer:

 

Vakuumbeläggning av koppar, silver och andra ledande material på ytan av keramik och keramik av elektrisk komponent och kretskort.

 

Det är också lämpligt för vakuumavsättning av olika metallfilmskikt på ytan på andra plattliknande arbetsstycken (glas, akrylskiva, etc.);

 

Huvudfunktioner:


Magnetfält begränsar plasma

Detta är kärnfunktionen för magnetronsputtering. Genom att applicera ett starkt magnetfält med en specifik form (vanligtvis en ring- eller racerbana form) nära målytan, är elektronerna begränsade nära målytan för att göra spiralrörelse, vilket kraftigt ökar sannolikheten för kollision och jonisering av elektroner med arbetsgas (vanligtvis argon) atomer.


Hög joniseringsgrad och hög deponeringshastighet

Magnetfältets inneslutning ökar signifikant plasmatätheten och joniseringsgraden, vilket gör sputteringsprocessen mer effektiv.

Detta innebär att vid relativt lågt gastryck och låg sputtrande spänning/effekt kan mycket högre sputtering och avsättningshastigheter uppnås än konventionell DC -sputtering.

 

Låg temperaturprocess

Eftersom det mesta av energin används för att jonisera gas- och sputtermålatomerna överförs relativt lite värme till underlaget.

 

Bra filmkvalitet

God densitet, stark vidhäftning, hög renhet och god enhetlighet.

 

Brett utbud av materiell anpassningsförmåga

 

Bra processstyrbarhet


Produktionslinjen för magnetron sputtering beläggning har blivit en av mainstream-teknologierna för att förbereda funktionella tunna filmer (som optiska filmer, ledande filmer, slitsträckta hårda filmer, dekorativa filmer, antikorrosionsfilmer, magnetiska filmer, halvledarfilmer, etc.) i modern industri på grund av dess kärnfunktioner och fördelar som sådana som de depositionerna, låga temperaturer, kompletterande filmkvalitet, kompetens, en del av compect, stor film, en del av compact, compect, compact, compect, compecty compact vidhäftning), bred materialanpassningsbarhet, god enhetlighet och kontrollerbarhet. Den har extremt breda tillämpningar inom mikroelektronik, plattpanelskärmar, solceller, verktygsbeläggningar, bildelar, förpackningar, dekoration, optiska enheter och andra fält.

 

 

Populära Taggar: Magnetron sputtrande beläggningslinje, porslin magnetron sputtering beläggningslinjetillverkare, leverantörer, fabrik

Skicka förfrågan
Kontakta ossOm det har någon fråga

Du kan antingen kontakta oss via telefon, e -post eller online -formulär nedan. Vår specialist kommer att kontakta dig inom kort.

Kontakta nu!